正文 第九百一十一章第二代石墨烯MS芯片(3/5)

    李林飞没理她，而是接着道：“首先，我们来讲讲MS芯片的突破性。”
    “一般来说，现在以硅晶体为代表的半导体芯片，其栅长制作工艺的物理极限在7nm左右，倘若能突破，基本上都运用到了其他的材料上。”
    “随着科技发展，以前引领半导体制作工艺准则的摩尔定律已经失效，而经过我们公司的研发，现在你们看到的这款MS芯片的栅长在1nm！”
    李林飞话到这里，现场骤然起了一阵如潮般的哄闹声。
    “什么？就这个‘LS芯片’的栅长极限在1nm？”“开玩笑吧，居然是1nm，我还想着能有5nm就厉害了呢？”
    “我的天，李林飞知道自己在说什么吗，在半导体工艺里面，现在10nm的芯片都才刚刚问世不久，像是7nm和5nm的芯片，都还在研究中，可他居然要上市1nm的芯片了，这是在说笑吗？”
    “不得了不得了啊，我之前看新闻，以为今天的主题是金属氢，但是这个1nm的MS芯片，其重要性不比金属氢小多少啊。”
    “半导体工艺的巨大突破啊，1nm的MS芯片，这绝对是史无前例的芯片发布会。”
    一般来说，芯片的栅长越短，则可以在相同