纳米级的光刻机，而实际上最先进的光刻机已经到5纳米级了，依旧落后三代甚至四代的差距。
本来18年的时候ASML要交付一台7纳米级的EUV极紫外光刻机的，结果一场非常意外的大火给搅黄了。
然后拖拖拖，一拖又是两年多，今年本来要交付了，现在又出现这么一档子事情，这事情恐怕是要凉透的节奏，7纳米级的光刻机是不用抱多大幻想了。
相比之下，国内最好的光刻机厂商，沪市微电子装备（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的工艺目前也只能达到90纳米，相当于04年上市的奔腾四CPU的水平，而国外目前因PHC的出现，英特尔公司已经掏出了5纳米级的芯片了。
这其中的差距不是一星半点，也正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，还得看外国人的脸色，心情好了就给，心情不好了就拖，心情极差直接不给，脆弱的友谊小船真的是说翻就给你翻了。
这一次，微电子也加入了半导体工业联盟成为CSAC体系内的一员，如果说ASML的光刻机水平是王者段位，那SMEE就是一个白银级别的，顶多是个黄金段位不能再高了。
实际上，李林飞的这支队伍里，除了海思等少数